विवरण:

फोटोवोल्टिक घोल सौर पैनलों की सतह पर सकारात्मक और नकारात्मक इलेक्ट्रोड के रूप में मुद्रित प्रवाहकीय घोल को संदर्भित करता है।फोटोवोल्टिक स्लरी बैटरी के लिए सिलिकॉन वेफर के उत्पादन में उपयोग की जाने वाली मुख्य सहायक सामग्री है, जो बैटरी निर्माण की गैर सिलिकॉन लागत का 30% - 40% है।

अल्ट्रासोनिक फैलाव तकनीक फैलाव और मिश्रण को एकीकृत करती है, और फोटोवोल्टिक घोल के कणों को माइक्रोन या यहां तक ​​कि नैनोमीटर स्तर तक परिष्कृत करने के लिए अल्ट्रासोनिक गुहिकायन प्रभाव से उत्पन्न चरम स्थितियों का उपयोग करती है।अल्ट्रासोनिक फैलाव कम तापमान पर नैनो फोटोवोल्टिक पेस्ट तैयार कर सकता है।

विशेष विवरण:

कार्य प्रभाव:

लाभ:

यह बैटरी के आंतरिक प्रतिरोध को कम कर सकता है और उच्च वर्तमान डिस्चार्ज पावर घनत्व में सुधार कर सकता है;

कम तापमान उपचार से सक्रिय सामग्रियों की ग्राम क्षमता में सुधार हो सकता है;

प्रवाहकीय एजेंट और बाइंडर की मात्रा कम करें;

इलेक्ट्रोलाइट अवशोषण बढ़ाएँ;

सेवा जीवन बढ़ाएँ.